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I metodi di pulizia industriali tradizionali comprendono il metodo di pulizia meccanico di attrito, il metodo di pulizia chimico di corrosione, il metodo di pulizia solido liquido del getto ed il metodo di pulizia ultrasonico ad alta frequenza. Sebbene siano stati ampiamente usati nella lavanderia industriale, l'applicazione dei metodi di pulizia tradizionali notevolmente è stata limitata quando i requisiti dei regolamenti di protezione dell'ambiente sono sempre più rigorosi ed i dispositivi di alta precisione sono sempre più ampiamente usati in Cina. Il metodo di pulizia meccanico ha alta pulizia, ma è facile da danneggiare il substrato. Il metodo di pulizia chimico di corrosione appartiene a pulizia senza stress, ma l'inquinamento è pesante. Particolarmente quando la composizione nella sporcizia è complessa, vari agenti di sgrassatura devono essere selezionati affinchè la pulizia ripetuta soddisfacciano le richieste di pulizia di superficie. La pulizia solida liquida del getto ha alta flessibilità, ma il costo relativo è alto, che deve consumare molte acqua ed impurità solide ed il trattamento liquido residuo successivo è inoltre complesso; Sebbene il metodo di pulizia ultrasonico ad alta frequenza abbia buon effetto di pulizia, è impotente pulire le particelle di sporcizia di submicron con forte adesione. La dimensione del carro armato di pulizia limita l'intervallo di grandezza del pezzo in lavorazione pulito e l'essiccazione dopo la pulizia è inoltre un grande problema.
La pulizia del laser è una tecnologia non inquinante efficiente e verde. Rispetto a pulizia chimica, non ha bisogno di alcuni agente chimico e soluzione di pulizia; Rispetto a pulizia meccanica, non ha macinazione, sforzo, materiali di consumo e danneggiamento minimo della matrice (calligrafia delle reliquie culturali e pulizia della pittura); Il laser può essere guidato dalla trasmissione di fibra ottica per pulire le parti che sono difficili da raggiungere, con una vasta gamma di applicazione (pulizia nucleare della conduttura); È inoltre applicabile a una vasta gamma di oggetti, compreso rimozione della ruggine, sverniciatura, rimozione della sporcizia ed il trattamento di superficie del wafer; Alta pulizia (può rimuovere le particelle di inquinamento sotto il livello di nanometro). Questa tecnologia si è applicata in vari campi internazionalmente (modellare pulizia e pulizia della mano del combattente), ma ha cominciato appena in Cina.